разновидность фотоэмульсий, чувствительных к ультрафиолетовому свету и используемых в процессе фотолитографии для создания необходимой конфигурации пленок в интегральных схемах. Фоторезисты делятся на негативные и позитивные. Негативные фоторезисты под действием ультрафиолетового облучения полимеризуются и становятся устойчивыми к травителям. Засвеченные участки остаются на поверхности подложки и образуют защитные покрытия, предохраняющие нанесенную на подложку пленку от разрушения травителями. В позитивных фоторезистах под действием света разрушаются полимерные цепочки и засвеченные участки вытравливаются. Фоторезисты наносятся на поверхность подложки в виде тонкой пленки толщиной до одного микрометра, что обусловлено необходимостью обеспечить высокую разрешающую способность.